Boston Micromachines

自適應光學元件，可變形反射鏡，波前傳感器

自適應光學元件套件

自適應光學元件套件是一种完整的自适应光学元件成像方案，它包含一个可变形反射镜、一个波前传感器、控制软件和装配所需的光力学元件。这些小型精密波前控制器件在光束形成、显微、激光通讯和视网膜成像中有具有重作用。其中有带有140或32个致动器的镀金膜或铝膜的可变形反射镜，以及基于15赫兹CCD或450赫兹CMOS Shack-Hartmann波前傳感器可供选择。

特性
完整的套件和軟件提供開箱即用的波前測量和控制
套件包括
·連續可變形反射鏡
·Shack-Hartmann波前傳感器
·激光二極管模塊（635納米）
·所有所需的成像光學元件和相關安裝硬件
·適用于Windows操作系統的功能全面的獨立控制軟件
·SDK可以爲終端用戶提供定制應用

币游注册根據下列規格提供8種套件：
·鍍鋁膜或金膜的可變形反射鏡
·帶32或140個致動器的可變形反射鏡
·15赫兹CCD或450赫兹CMOS Shack-Hartmann波前傳感器

MEMS可變形反射鏡

·6 x 6（Mini-DM）或12 x 12（Multi-DM）致动器类型可供选择
·3.5微米最大致動器位移
·可達3.5千赫茲的高速操作
·400微米中心對中心致動器間距，致動器間的低耦合效應可實現高空間分辨率
·零磁滯致動器位移
·14位驅動電路可實現亞納米量級的重複性
·內置高電壓電源的緊湊型驅動電路，適用于工作台或OEM集成

Boston Micromachines Corporation（BMC）公司提供迷你型和多重型基于微机电（MEMS）技术的可变形反射镜，作为币游注册自適應光學元件套件中的部件。这些可变形反射镜（DM）极其适合高级光波波前控制；他们可以对高度变形的波前进行单色像差（球差、彗差、象散、场曲或畸变）校正。目前，MEMS可變形反射鏡是波前整形应用中广泛应用的器件，该反射镜技术成熟、用途广泛，具有高分辨率的波前校正性能。

MEMS可變形反射鏡结构

可变形反射镜采用多晶硅表面微加工制作工艺进行制作，经过简易包装，可以提供复杂的像差补偿。该反射镜包含一个反射镜薄膜，它通过32个静电致动器（对应Mini-DM，一个6 x 6 致动器阵列，四角上为四个闲置致动器）或140个静电致动器（对于Multi-DM，一个12 x 12 致动器阵列，四角上为四个闲置致动器）进行变形。这些致动器可以提供3.5微米的行程（632.8纳米下可以通过11个波前），并且具有零磁滞特性。

這些反射鏡可以鍍金反射膜鋁反射膜每個反射鏡都用一個6°楔形保護窗進行包裝，該窗口鍍有對應400-1100納米波長範圍的增透膜。

Shack-Hartmann波前傳感器

·高灵敏度型：基于CCS，可达λ/50 RMS
·高速型：基于CMOS，可达450 Hz
·波长范围：300 - 1100纳米
·實時波前和強度分布測量
·接近衍射極限光斑尺寸
·可用于連續波和脈沖光源
·靈活的數據導入操作（Text或Excel）
·可通過TCP/IP進行實時數據讀取

这些Shack-Hartmann波前傳感器可以探测波前中的失真，并通过可变形反射镜进行校正。

基于CMOS的450 Hz传感器
CMOS技術的本質特性使其極其適合用于快速波前傳感器。由于CMOS傳感器中每個像素都具有其自己的獨立電路，在只有部分傳感器數據被讀取的窗口技術中具有優勢。該信號可以僅從傳感器上部分區域進行快速讀取，而不像CCD系統中對整個傳感器進行序列數據讀取。這樣一來，目標區域（AOI）就可以被縮小從而得更高的幀速，並且可達450Hz*。在自適應套件中采用的分辨率設置下，可以~100Hz的幀速進行工作。

对于450 Hz的帧速，必须采用180 x 180的像素分辨率。该速度取决于计算机硬件速度，不需要图形显示就可以实现，并假设符合5阶泽尼克多项式和小曝光时间。

130萬像素CCD傳感器
130万像素波前传感器具有λ/50 RMS的较高波前灵敏度，这是因为CCD传感器提高了空间分辨率（4.65微米的像素间距）。该传感器以15赫兹的帧速进行工作。